
您的位置:網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)文章 > HL201-XXMZ19 射頻導(dǎo)納物位計在測量帶有劇烈攪拌或渦流的液體時 在化工聚合釜、生物發(fā)酵罐或污水處理曝氣池中,為了保證物料的充分混合或化學(xué)反應(yīng)的進行,通常會安裝大功率的攪拌器或進行劇烈的鼓風(fēng)曝氣。這會導(dǎo)致罐內(nèi)液體產(chǎn)生強烈的渦流、飛濺以及泡沫。對于接觸式的射頻導(dǎo)納物位計而言,這種動態(tài)的流場環(huán)境易引發(fā)虛假信號,導(dǎo)致控制系統(tǒng)誤判。
產(chǎn)生虛假信號的主要原因在于,當(dāng)攪拌器高速旋轉(zhuǎn)時,液面會形成深漩渦,或者液體被甩起瞬間接觸到原本處于氣相空間的探頭。射頻導(dǎo)納技術(shù)靈敏,一旦探頭接觸到導(dǎo)電液體,電容值會瞬間跳變。如果儀表的反應(yīng)速度過快,這種瞬間的接觸就會被誤認(rèn)為是真實的液位上漲,從而觸發(fā)高料位報警或聯(lián)鎖停泵。
為了解決這一問題,射頻導(dǎo)納物位計在調(diào)試與應(yīng)用中通常采取以下策略:
首先是合理利用儀表的延時功能。絕大多數(shù)射頻導(dǎo)納物位計(無論是開關(guān)量還是模擬量輸出)都內(nèi)置了可調(diào)的時間延時電路(通常在0.25秒到15秒之間)。在攪拌劇烈的工況下,可以將延時時間適當(dāng)調(diào)大(例如設(shè)置為3至5秒)。這樣,當(dāng)液體因攪拌飛濺瞬間接觸探頭時,由于持續(xù)時間未達到設(shè)定的延時閾值,儀表不會輸出報警信號;只有當(dāng)真實的液位持續(xù)上漲并穩(wěn)定覆蓋探頭超過設(shè)定時間后,儀表才會確認(rèn)為有效信號并動作。這是過濾攪拌干擾有效的方法。
其次是優(yōu)化探頭的安裝位置。探頭應(yīng)盡量遠離攪拌槳葉的旋轉(zhuǎn)區(qū)域和進料口的直接沖擊區(qū)。通常建議將探頭安裝在罐壁與攪拌軸之間的中間位置,或者在擋板附近,這些區(qū)域的液面相對平穩(wěn),渦流影響較小。如果罐體直徑較小,無法避開攪拌區(qū)域,可以考慮在探頭外部加裝一個開孔的保護套管(屏蔽管),讓液體通過套管上的開孔緩慢進入,從而緩沖外部劇烈流體的直接沖擊。
再者是調(diào)整靈敏度閾值。在泡沫較多的工況下,泡沫的介電常數(shù)通常低于真實液體。通過標(biāo)定,將儀表的靈敏度閾值設(shè)定在真實液體與泡沫之間,可以讓儀表“忽略"頂部的泡沫層,只檢測下方真實的液體界面。
通過“延時濾波 + 合理選址 + 靈敏度微調(diào)"的組合拳,射頻導(dǎo)納物位計可以在劇烈攪拌的復(fù)雜流場中保持穩(wěn)定的測量表現(xiàn)。